ASML新一代EUV光刻机刚出货，尼康就要断了英特尔/三星/台积电的命根？

据phone arena报道， 三星官方确认，今年将开始量产折叠面板，可折叠的智能手机要来了。据phone arena报道，三星官方确认，今年将开始量产折叠面板，可折叠的智能手机要来了。台积电一直都宣传它的工艺进展良好，不过近期其高管联合魏哲家()就明确表示明年量产的工艺不会引入（极紫外光刻技术）而要到年才会引入，对工艺及更先进的工艺极为重要可以获得更好的能耗表现，三星则在近期在韩国向客户介绍其半导体制造工艺的时候表示明年量产的工艺将引入（极紫外光刻技术），这代表这三星在工艺上已取得领先优势。

光刻机三巨头已成过去，Nikon和Canon走向没落

光刻（Photolithography） 意思是用光来制作一个图形（工艺）。即在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程，将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。

而光刻机则是完成光刻的核心设备，也是集成电路芯片制造当中难度最高、最关键的核心设备。

提起光刻机尼康光刻机型号，那么我们就不得不提及光刻机三巨头：荷兰的ASML、日本的Nikon和Canon。

自从1978年，美国GCA公司推出了全球第一台光刻机之后，日本的光学设备巨头Nikon便在光刻机市场迅速崛起，日本的佳能和荷兰的ASML也是紧跟其后，很快市场上便形成了三强并立的局面，这三家厂商几乎垄断了整个光刻机市场。其中尼康市的场份额长期都在50%以上，可谓是当之无愧的霸主。

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此外，随着苹果在iphone 8和iphone x上开始应用无线充电，安卓阵营也将迅速跟进，而小米7很有可能也会加入无线充电功能，这无疑是一个值得期待的点。其实，谈及容器技术，其实docker并非首创，早在十数年前，容器技术便已有雏形，但是以solomon hykes为首的一帮工程师敏锐的发现了容器技术在云计算领域的巨大潜力，随后迅速技术转型，开始投向容器技术并且从一开始就走开源路线，这位身上流著美国与法国的血统，喜欢网咖打电动，酷爱的年轻人开始了一段非凡的浪漫之旅。其实，谈及容器技术，其实docker并非首创，早在十数年前，容器技术便已有雏形，但是以solomon hykes为首的一帮工程师敏锐的发现了容器技术在云计算领域的巨大潜力，随后迅速技术转型，开始投向容器技术并且从一开始就走开源路线，这位身上流着美国与法国的血统，喜欢网咖打电动，酷爱的年轻人开始了一段非凡的浪漫之旅。

目前193nm液浸式光刻仍然是应用最广且最成熟的技术，能够满足精确度和成本要求，所以其工艺的延伸性非常强，很难被取代。再加上新的EUV光刻技术的一再推迟，以至于随后的22/16/14/10nm节点主要几家芯片厂商也仍然继续使用基于193nm液浸式光刻系统的双重成像（double patterning）技术。

根据2007年的统计数据，在中高端光刻机市场，ASML占据大约60%的市场份额。而最高端市场（例如沉浸式光刻机），ASML大约目前占据80%的市场份额。可谓是绝对的龙头。尼康和佳能被彻底打残，只能在低端市场苟延残喘。

据业内人士称，目前尼康和佳能的光刻机在技术上已经全面落后，唯一剩下的优势就是价格。比如尼康的光刻机同类机型价格还不到ASML的一半，同样佳能的光刻机同样也非常便宜。

但是，先进制程本来就是烧钱的，成本不在边际考虑因素中，鉴于现状， 各大芯片厂商的技术团队是不能容忍采购团队为了单纯的省成本而去采购尼康或者佳能光刻机，所以ASML成为了多数厂商的首选项。不过，尼康和佳能的光刻机仍然会有一定的市场，比如海力士在其低阶的KrF光刻机上也偶尔会选择佳能，因为DRAM的第一步etching环节根本没有太高技术要求。

宾得，百年老牌光学厂商，世界上第一架五棱镜取景单反就是宾得制造的，在胶卷相机时代享誉全球，其盛名超过现在的佳能尼康，但是由于销售策略原因，此厂商在近几年逐渐走下坡路，步入数码时代以后，差距逐渐与佳能尼康拉远，虽然相机有差距，但是其光学技术不可小窥，生产出众多顶级镜头，哈苏实验室评价的能够列入顶级镜头的19款镜头中，宾得就占三款，实力雄厚的佳能无非也只有三款入选，而尼康没有一款可以入选的。像c、n两家国内最大的相机厂商都没有推出微单(或单电)产品,就能看出它的市场空间了,还是选一款单反或性价比高的卡片吧,推荐松下lx3gk佳能ixus系列新卡片机和佳能60d单反,尼康d90单反,这几款都还不错。2008年有佳能eos 5d mark ii、索尼a900、尼康d3x、尼康d700、松下dmc-g1（首款m4/3），2012年则有尼康d4、富士x-pro1、尼康d800/d800e、奥林巴斯om-d e-m5、佳能eos 5d mark iii、索尼a99、尼康d600、佳能eos 6d。

2012年英特尔向ASML投资总计33.67亿欧元，其中8.29亿欧元用于450毫米晶圆和EUV极紫外光刻技术，25.38亿欧元用于购买15%的股权。一个月后，台积电也宣布投资2.76亿欧元(3.44亿美元)帮助ASML开发新技术，再拿出8.38亿欧元购买5%的股权。随后，三星也投入也是2.76欧元)帮助ASML开发新技术，不过购买股权方面只花了5.03亿欧元(6.28亿美元)，换取了3%的股权。

全球最大的三个Foundry厂商都成为了ASML的股东，并提供大笔的资金资助其进行技术研发，同时也优先采用其光刻机产品，ASML在光刻机市场份额自然也是一路走高，并且在新一代的EUV光刻机上也取得了成功突破。

EUV技术成7nm量产关键

随着工艺制程的不断提升，晶体管越来越越小，晶体管密度也越来越大。现在三星和台积电都已量产10nm工艺，但是进入7nm将会面临更高的物理限制，半导体工艺提升需要全新的设备。EUV极紫外光刻技术被认为是制程突破10nm之后的7nm、5nm工艺的关键。相比常用的193nm沉浸式光刻来讲，其能够进一步缩小晶体管之间的距离，在同样的面积下集成更多的晶体管数量以便提升性能。

前面提到，目前主流的光刻技术还是193nm液浸式光刻，虽然被广泛应用，但是它的问题在于，随着光波长的变小，光会被用来聚光的玻璃透镜吸收，结果是光到达不了硅片，也就无法在晶圆上生成任何图案，这也正是EUV光刻技术将取代它的原因。在EUV光刻技术中，玻璃透镜将被反射镜取代以用于聚光。

EUV光刻技术早期有波长10～100nm和波长1～25nm的软X光两种，两者的主要区别是成像方式，而非波长范围。前者以缩小投影方式为主，后者以接触／接近式为主。目前的EUV技术使用的是激光等离子源产生的约13.5nm的紫外波长，这种光源工作在真空环境下以产生极紫外射线，然后又光学聚焦形成光束。光束经由用于扫描图形的反射掩膜版反射。

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图1展示了EUV的基本工作原理：激光对准氙气喷嘴。当激光击中氙气时，会使氙气变热并产生等离子体；一旦产生等离子体，电子便开始逃逸，从而发出波长为13.5nm的光；接着这种光进入聚光器，然后后者将光汇聚并照到掩膜上；通过在反射镜的一些部分施加而其它部分不施加吸收体，在反射镜上形成芯片一个平面的图案的光学表示，这样就产生了掩膜；掩膜上的图案被反射到四到六个曲面反射镜上，从而将图像微缩，并将图像聚投到硅晶圆上；每个反射镜使光线稍微弯曲以形成晶圆上的图像，这就像照相机中的透镜将光弯曲以在胶片上形成图像一样。

整个工艺必须在真空中进行，因为这些光波长太短，甚至空气都会将它们吸收。此外，EUV使用涂有多层钼和硅的凹面和凸面镜——这种涂层可以反射将近70%的波长为13.5nm的极紫外线光，其它30%被反射镜吸收。如果没有涂层，光在到达晶圆之前几乎就会被完全吸收。镜面必须近乎完美，即使涂层中的小缺陷也会破坏光学形状并扭曲电路图案，从而导致芯片功能出现问题。

半导体部门将于2018年年内导入名为“euv（极紫外光刻）”的最新曝光技术。台积电一直都宣传它的工艺进展良好，不过近期其高管联合魏哲家()就明确表示明年量产的工艺不会引入（极紫外光刻技术）而要到年才会引入，对工艺及更先进的工艺极为重要可以获得更好的能耗表现，三星则在近期在韩国向客户介绍其半导体制造工艺的时候表示明年量产的工艺将引入（极紫外光刻技术），这代表这三星在工艺上已取得领先优势。但是紫外技术应用的难度很高，在国内乃至国际上都很少成熟的技术应用。

EUV光市场，ASML独领风骚

由于投资者们担心贸易保护主义，美国当局料难扭转美元颓势，在美元温和走软的预期下，欧元兑美元2018年底和2019年目标分别上看1.30和1.35，2019年底美元兑日元可能跌至90。昨日三星公布了2017年芯片的销售数据，数据显示三星在2017年度的芯片业务销售额达690亿美元，然而同年英特尔销售额仅仅只有630亿美元，三星这次无情的碾压了英特尔，成为了全球最大芯片商，然而这个宝座自1992年以来一直被英特尔蝉联。多家大型机构也不得不减持欧元/美元，提高欧元走强预期。

另外，特斯拉新产品也将陆续推出，model 3预计今年7月量产，并于9月达到规模量产级别。必要条件：在第38话中让boss出击（boss要驾驶bossborot），当敌方的量产型大魔神部队出现后让boss击毁除量产型大魔神1号之外任意一台，便会发生boss将大破的量产型大魔神&lsquo。生产各种型号压瓦机设备，在传统压瓦机的基础上，又新推出电脑全自动压瓦机生产线、屋面板、墙面板成型机系列、琉璃瓦成型机系列、楼承板成型机系列、高速护栏设备、双层彩钢瓦成型机系列、c、z型钢机系列、拱形设备系列、剪板机、折弯机系列,产品己达到同行业先进水平，生产产品因其机器外形美观、结构合理、瓦型标准受到新老客户的一致好评。

英特尔采购了数台NXE 3350B，台积电好像也有两台（另外台积电此前已购买的两台NXE 3300B也在ASML的协助下，升级到与NXE 3350B相同的水平），三星似乎也有，三星在2016年花费1.78亿美元从ASML采购EUV设备（其中应该包括NXE 3350B和最新的NXE3400光刻机），不过目前全球总的NXE 3350B也就只有6套而已，可谓是僧多肉少，所以NXE 3350BEUV极紫外光刻机主要还是被用来进行7nm的相关测试和试产。台积电日前就表示其7nm已在今年4月开始试产。

在首日金网奖盛典，用友优普信息技术总裁向奇汉，hdtmobile掌握传媒联合创始人、总经理简昉，英特尔中国区市场运营部总监孙彦斌，百度营销咨询部总经理刘伟，山东鲁花集团品牌总监初志恒，hdtmedia资深副总裁袁珏明，搜狗无线商业产品技术副总监丁玮均以移动互联网时代的网络营销为话题进行了深入探讨。本期趋势课程师资强劲，中国区行政总裁及艺术总监frankie chan, 中国区及南半球教育总监bill watson,学院资深讲师兼创作总监ben huang黄伟诚及学院资深讲师billy zhao携手精彩演绎。研究发现，每天吃西兰花者粪便中幽门螺杆菌抗原水平可下降40％以上。

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最新的好消息是，ASML最高端的EUV光刻机NXE 3400B已经开始出货，虽然仅仅在Q1晚些时候才出货了第一台（客户应该是英特尔），而ASML收到的订单已经累计达到了21台，总价值23亿欧元，单价超1亿欧，媲美一架F35战斗机。

然而这个目标才刚刚开始设想，三星就爆出了这样一条大新闻，的确，三星的芯片一直以来也跟英特尔比不相上下，三星虽然pc端业务远没有手机业务那么红火，但是存储芯片的领域确实大获成功，三星电子在当年通过购买日本企业的专利授权进入英特尔在上世纪九十年代初开创的存储芯片市场尼康光刻机型号，本身这个市场可以说是英特尔最能体现自身实力的地方，但是英特尔后来退出了一次，又重新进了一次，只能眼巴巴的看着三星反超，三星在去年12月对外宣布已经研制出全球最小的dram芯片，并已经实现了量产。根据数据，三星去年芯片业务上的营收为691亿美元，英特尔为628亿美元，虽然两者在芯片业务上的侧重不同，前者为内存以及闪存芯片，后者主要为基于x86的处理器的制造，但是单说营收，三星已经超越英特尔。用于smism3260ab、sm3260ad主控芯片u盘的量产程序，之前有英文版，这里发布的是简单汉化版，只是汉化了部分菜单，但总比没有汉化强，支持现代、东芝、闪迪、三星、英特尔、镁光闪存颗粒。

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