(1 9)中华人民共和国国家知识产权局(1 2)发明专利说明书(1 0)申请公开号CN109616496B(4 3)申请公开日期202 0. 0 8. 11(2 1)申请号CN 2. 0(2 2)申请日期201 8. 1 1. 15(7 1)申请人武汉华星光电半导体显示技术地址430079东湖湖北省武汉市湖北省新高技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室(7 2)发明人冯晓亮(7 4)专利代理人深圳德利知识产权代理人林才贵(5 1)国际CI权利要求说明书(5 4) OLED触摸屏的制造方法的标题(5 7)摘要)本发明提供了OLED触摸屏的制造方法。 OLED层和触摸层形成在基础基板上,与现有技术相比,当触摸层发霉时e,在沉积第一绝缘层之后并且在沉积桥接层之前,不蚀刻第一绝缘层。在沉积并形成第二绝缘层之后,通过组合使用两种蚀刻气体将第一绝缘层和第二绝缘层一起干蚀刻,以实现在触摸层中形成两个具有不同深度的接触孔的相同工艺。它有效地减少了湿法刻蚀工艺对OLED的腐蚀,简化了生产工艺,提高了设备的生产能力。同时,还可以实现源电极层和漏电极层中的触摸引线和焊盘的预保护,避免了由于过度腐蚀或氧化而导致的功能失效。法律地位法律地位公告日期2019-04-12 2019-04-12 2019-04-12 2019-05-07 2019-05-07 2020-08-11法律地位信息披露实质性审查的公开披露有效的实质审查的有效授权是公开的。有效实质审查的有效授权已公开披露。 OLED触摸屏的生产方法的权利要求书说明为...请下载并查看OLED触摸显示器的手册。屏幕的生产方法的手册的内容为...请下载并查看 >
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这是赤裸裸的挑衅
望严查