① 良好的加工性
不同的加工方法对聚合物的加工性有不同的要求。 由于微通道的构型越来越趋于复杂,高深宽比的微通道的优点很多,所以聚合物材料应具有良好的加工性。

② 良好的电绝缘性和热性能
由于微流控芯片中的液体驱动经常采用电驱动方式,而且芯片经常被用于进行电泳分离,加高压电场会产生热量,高温或局部高温都会对分离效果造成影响,所以材料应有良好的电绝缘性和热性能。
③ 良好的光学性质
对于荧光检测和紫内有良好的透光性,才能进行有效的检测。
④ 表面易于修饰改性
聚合物材料的表面易于进行改性,如通过紫外、等离子体、激光和化学处理等,不仅可改变电渗流,而且还可减少样品的的吸附。
⑤ 在使用条件下材料呈化学惰性
由于在微分析操作中经常要接触到各种试剂,需要一定抗溶剂能力和耐酸碱能力,因此,在所采用的分析条件下材料应是惰性的。
⑥ 根据应用场合合理选择
当制作普通微流控芯片时,可选用软化温度较低的材料,如有机玻璃或聚苯乙烯;制作PCR与CE集成芯片时,可选用软化温度较高的材料,如聚碳酸酯或聚丙烯等。
(4) 陶瓷
陶瓷材料易碎、透光性不好,但耐高温,有较高的抗压强度,采用软刻蚀或激光加工可制出微通道,适于极限恶劣条件下使用,如航空、太空试验和极地考察等。
(5) 纸
微流控纸芯片(lab-on-paper,纸上微型实验室)是近几年发展的一种新型微流控芯片。用纸张作为基底代替硅、玻璃、高聚物等材料,通过各种加工技术,在纸上加工出具有一定结构的亲/疏水微细通道网络及相关分析器件。
与传统的硅、玻璃、高聚物微流控芯片相比,微流控纸芯片具有如下优点:
① 成本更低。
② 分析系统更易微型化、便携化。
滤纸本身具有很强的毛细管作用,经图案化疏水性处理即能引导溶液有序流动,因此无需外置的驱动泵;纸张薄,质地轻,且可折叠,因此易于保存和运输。
③ 生物相容性好。
滤纸的主要成分为纤维素,具有良好的生物相容性,可以在其表面固定酶、蛋白质和DNA等生物大分子。
④ 检测背景低。
纸张通常是白色,有利于在纸芯片上开展比色分析。
⑤ 后处理简单,无污染。
纸芯片使用完后,可通过简单安全的燃烧方法进行处理,不会对环境造成污染。
2、微流控芯片的制作技术
(1)光刻和刻蚀技术
传统的用于制作半导体及集成电路芯片的光刻和刻蚀技术,是微流控芯片加工工艺中最基础的。它是用光胶、掩膜和紫外光进行微细加工,工艺成熟,已广泛用于硅、玻璃和石英基片上制作微结构。光刻和刻蚀技术由薄膜沉积、光刻和刻蚀三个工序组成。复杂的微结构可通过多次重复薄膜沉积-光刻-刻蚀这三个工序来完成。
光刻前先要在干净的基片表面覆盖一层薄膜,薄膜的厚度为数埃到几十微米,这一工艺过程称之为薄膜沉积。薄膜按性能不同可分为器件工作区的外延层,限制区域扩张的掩蔽膜,起保护、钝化和绝缘作用的绝缘介质膜,用作电极引线和器件互连的导电金属膜等。膜材料常见有二氧化硅、氮化硅、硼磷硅玻璃、多晶硅、电导金属、光刻抗蚀胶、难熔金属等。制造加工薄膜的主要方法有氧化、化学气相沉积、蒸发、溅射等。
在薄膜表面均匀地覆盖上一层光胶,将掩膜上微流控芯片设计图案通过曝光成像的原理转移到光胶层上的工艺过程称为光刻。光刻技术一般有以下基本工艺过程构成:
①基片的预处理。
通过脱脂、抛光、酸洗、水洗的方法使基片表面净化,确保光刻胶与基片表面有良好的粘附。
②涂胶。
在经过处理的基片表面均匀涂覆一层粘性好、厚度适当的光刻胶。胶膜太薄,易生成针孔,抗蚀能力差;太厚则不易彻底显影,同时会降低分辨率。光刻胶的实际厚度与它的粘度有关,并与甩胶机的旋转速度的平方根成反比。涂胶方法有旋转涂覆法、刷涂法、浸渍法、喷涂法等。
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愚者图虚名