典型的试验波形图与分析见图6-10。其中图6为低倍数电流5kA4In的分断波形图。分断后漏电、重燃。示波图分析:绝缘电阻不能快速生成,重燃,不能分断。图7为高倍数电流100kA25In分断波形图。未分断、重燃。示波图分析:分断后绝缘电阻不能继续增长而重燃,不能分断。图8为高倍数电流70kA100In分断波形图。分断没有限流。示波图分析:100In应在10ms内分断,燃弧后电流下降,2ms后电流重新上升至180°电相角时过零点没有熄弧,继续燃弧10ms分断。这是一例极为勉强的分断示波图,有可能造成多个半导体器件损坏,绝缘电阻0.5MΩ。图9为高倍数电流70kA100In分断波形图,分断。示波图分析:良好的弧前示波图,在59kA时开始燃弧,由两段曲线组成燃弧过程,电流下降斜率不同,表示分断已有些困难。绝缘电阻1MΩ。图10为高
倍数电流108kA54In分断波形图。分断。示波图分析:直线的示波图呈三角状,由弧前转变为燃弧时刻有明显的拐点,表示有较高的分断能力。绝缘电阻30MΩ。
4结论
本文介绍了快熔的结构和发展,分析了快熔的主要特性,得出选用快熔的基本原则是:
(1)确定电流通过能力;
(2)I2t值应小于被保护的半导体器件的I2t值;
(3)尽量低的暂态恢复电压;
(4)大于电路最大故障电流的分断能力;
(5)分断后的绝缘电阻>0.5~30MΩ;
(6)不使用有隐形故障的产品。
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